کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812367 | 1518112 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Phase segregation in laser crystallized polycrystalline SiGe thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Laser crystallized polycrystalline silicon-germanium (Si1âxGex) thin films were characterized with Raman spectroscopy. For xâ¥0.33, peak splitting of phonon modes is observed in the Raman spectra, a finding that is associated with phase segregation. Energy dispersive X-ray measurements confirm that those samples contain areas with poor and rich Ge concentrations.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 72-76
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 72-76
نویسندگان
M. Weizman, N.H. Nickel, I. Sieber, W. Bohne, J. Röhrich, E. Strub, B. Yan,