کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812380 | 1518112 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Recombination at silicon dangling bonds
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In the past, pulsed electrically detected magnetic resonance experiments (pEDMR) with silicon dangling bonds (db) in hydrogenated microcrystalline silicon (μc-Si:H) showed that at low temperatures, two db recombination mechanisms exist where electrons are captured (i) by dbs directly (db-dc) or (ii) via band-tail states (tail-db). Here, similar experiments on hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) and crystalline silicon/silicondioxide interfaces (c-Si/SiO2) are presented. They show that at low temperatures, only the db-dc is detectable at dbs in the c-Si/SiO2 interface (Pb centers) while in a-Si:H, only tail-db processes are observed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 132-136
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 132-136
نویسندگان
C. Boehme, F. Friedrich, T. Ehara, K. Lips,