کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812637 | 1518116 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Infinite-layer (Ca1âxSrxCuO2) film growth by molecular beam epitaxy and effect of hole doping
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Infinite-layer (Ca1âxSrxCuO2) film growth by molecular beam epitaxy and effect of hole doping Infinite-layer (Ca1âxSrxCuO2) film growth by molecular beam epitaxy and effect of hole doping](/preview/png/9812637.png)
چکیده انگلیسی
We have grown infinite-layer (Ca1âxSrxCuO2) epitaxial films using ozone assisted molecular beam epitaxy. In situ reflective high energy electron diffraction analysis shows that two-dimensional defect-free films can be obtained for limited composition (0.15
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 483, Issues 1â2, 1 July 2005, Pages 301-305
Journal: Thin Solid Films - Volume 483, Issues 1â2, 1 July 2005, Pages 301-305
نویسندگان
Seongshik Oh, J.N. Eckstein,