کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9812692 1518117 2005 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dual FCVA-PECVD deposition for DLC films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Dual FCVA-PECVD deposition for DLC films
چکیده انگلیسی
In this paper, we demonstrate the incorporation of hydrogen in ta-C films synthesised by mixing FCVA and PECVD. The hydrogen incorporation is realised by introducing a CH4 flow during the FCVA process. We present in this paper a comparison between ta-C and ta-C:H in terms of average mass density and hardness of the films in order to study the hydrogen influence on structure and properties.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1–2, 22 June 2005, Pages 197-200
نویسندگان
, , , , ,