کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812692 | 1518117 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dual FCVA-PECVD deposition for DLC films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
In this paper, we demonstrate the incorporation of hydrogen in ta-C films synthesised by mixing FCVA and PECVD. The hydrogen incorporation is realised by introducing a CH4 flow during the FCVA process. We present in this paper a comparison between ta-C and ta-C:H in terms of average mass density and hardness of the films in order to study the hydrogen influence on structure and properties.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1â2, 22 June 2005, Pages 197-200
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1â2, 22 June 2005, Pages 197-200
نویسندگان
C. Meunier, F. Munnik, J. Stauffer, E. Germann, S. Mikhailov,