کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9812720 1518119 2005 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of oxygen pressure, temperature and substrate/target distance on Cu2Ta4O12 thin films prepared by pulsed-laser deposition
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Influence of oxygen pressure, temperature and substrate/target distance on Cu2Ta4O12 thin films prepared by pulsed-laser deposition
چکیده انگلیسی
We report on details for film deposition and the film properties determined by Scanning Electron Microscope, Energy Dispersive X-ray spectroscopy, Transmission Electron Microscope and X-ray diffraction.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 479, Issues 1–2, 23 May 2005, Pages 12-16
نویسندگان
, , , , , ,