Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Epoxy resin; Fluorinated additives; Surface properties; Diffusion rate; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy;
مقالات ISI طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Graphene; Ionic liquid; Selectivity; Electrochemical sensing; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy;
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Oligonucleotide probes; Streptavidin-biotin system; Silanized silicon surfaces, Time-of-flight secondary ion mass spectrometry; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy;
Ohmic contact behavior of aluminum-doped zinc oxide with carbon-doped p-GaP epilayer for AlGaInP LEDs applications
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Aluminum-doped zinc oxide; Atomic layer deposition; Ohmic contact behavior; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy;
Characterization of graphene films grown on CuNi foil substrates
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Graphene; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Raman spectroscopy; Scanning electron microscopy; Chemical vapor deposition;
On the choice of tuning parameters for use with Robust GCV, Modified GCV and the Discrepancy Principle in the inversion of ARXPS data
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Depth profile; Tikhonov regularization; Matrix model;
Effect of binning on the inversion of ARXPS data
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Concentration gradient; Maximum entropy method; Tikhonov regularization;
Matrix-based approach for the inversion of ARXPS data
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Concentration depth profile; Tikhonov regularization; Tikhonov solution; Matrix model;
Spectroscopic and microscopic characterization of biosensor surfaces with protein/amino-organosilane/silicon structure
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Immunoglobulins; Amino-organosilane films; Specific binding; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Atomic force microscopy; Near-field scanning optical microscopy;
Regularization methods for the extraction of depth profiles from simulated ARXPS data derived from overlayer/substrate models
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Concentration gradient; Maximum entropy method; Tikhonov regularization;
Comparison of regularization methods for the inversion of ARXPS data
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Concentration gradient; Maximum Entropy method; Tikhonov regularization;
Protein coverage on silicon surfaces modified with amino-organic films: A study by AFM and angle-resolved XPS
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Amino-organic bilayers; Gamma globulins; Silanized silicon; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Atomic force microscopy; Integral geometry analysis
On the choice of a regulator for the extraction of depth profiles from ARXPS data obtained on plasma-treated polystyrene
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Tikhonov regularization; Maximum entropy regularization;
Towards chemical state resolution in regularized depth profiles derived from ARXPS data taken on plasma-oxidized polystyrene
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Polymer surface; Tikhonov regularization;
Chemical, energetic, and geometric heterogeneity of device-quality (1Â 0Â 0) surfaces of single crystalline silicon after HFaq etching
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; 68.35.Md; 68.45.Da; 82.30.Hk; 82.65.My; (1Â 0Â 0)Silicon; Hydrogen termination; Substoichiometric oxide; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Multiple-internal-reflection infrared spectroscopy; Atomic force microscopy;
Initial oxide-film growth on Mg-based MgAl alloys at room temperature
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Preferential oxidation; Oxide-film constitution; Growth kinetics; MgAl alloys; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy
Annealing effects on the properties of HfO2 films grown by metalorganic molecular beam epitaxy
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; 77.55.+f; 73.61.−r; 33.60.FyHfO2; High-k dielectric materials; Metalorganic molecular beam epitaxy; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy
Angle-resolved XPS investigations of the interaction between O2 and Mo2C/Mo(1Â 0Â 0)
Keywords: طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس زاویه حل شده است; Angle-resolved X-ray photoelectron spectroscopy; Oxidation; Molybdenum carbide;