![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Etching characteristics of ZnO thin films in chlorine-containing inductively coupled plasmas
Keywords: حکاکی پلاسما اچینگ پلاسما; ZnO; Inductively coupled plasma; Plasma etching; Chlorine; BCl3; Zinc oxychloride