![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Plasma–surface interactions for advanced plasma etching processes in nanoscale ULSI device fabrication: A numerical and experimental study
Keywords: حکاکی پلاسما اچینگ پلاسما; Plasma etching; Cl- and Br-based plasmas; Silicon; High-k dielectrics; Metal electrode materials; Profile simulation; MD simulation; ULSI