Fabrication of customizable wedged multilayer Laue lenses by adding a stress layer

اپتیک های متنوع برای اشعه ایکس سخت دارای ویژگی های برتر از لحاظ رزولوشن و کارایی هستند، اگر اثرات پراش فراوانی از تمام دیافراگم استفاده شود. برای لنز های لایه چند لایه، برای رسیدن به این اثر، ترجیحا یک هندسه متخلخل مورد نیاز است. ما یک رویکرد را با استفاده از یک لایه استرس اضافی برای تحقق اصلاحات هندسی لازم که در آن هر لنز را می توان به یک انرژی فوتون انتخاب شده به طور مستقل از رسوب چند لایه داده شده سفارشی. کیفیت رسوب لایه استرس با استفاده از میکروسکوپ اشعه ایکس آزمایشگاهی قبل از کاربرد آن در تسهیلات تابش سینکروترون با روش ویژه ای برای اندازه گیری شیب لایه نسبی در وضوح فضایی بالا مورد ارزیابی قرار گرفت.