کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10669769 1008786 2014 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Control of preferred (222) crystalline orientation of sputtered indium tin oxide thin films
ترجمه فارسی عنوان
کنترل جهت گیری کریستالی ترجیح داده شده (222) از فیلم های نازک اکسید تیتانیوم اسپاد شده
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
We report a two-step growth process for the fabrication of (222)-plane textured indium tin oxide (ITO) films. A thin ITO seed layer was grown in mixed Argon + Oxygen gases, followed by a thick ITO deposited in Argon gas. X-Ray diffraction shows that the sputtered ITO films exhibit strongly preferred (222) crystalline orientation. The (222)-plane textured ITO films have high transmittance above 80% in the visible range and carrier concentration, mobility and resistivity in the range of 1021 cm− 3, 40 cm2/Vs and 10− 4 Ω·cm, respectively. The surface roughness of our (222) textured ITO films is 1.4 nm, which is one of the smallest value obtained from sputtered ITO thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 570, Part A, 3 November 2014, Pages 16-19
نویسندگان
, , , , , , ,