کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669820 | 1008839 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Broadband transmission masks, gratings and filters for extreme ultraviolet and soft X-ray lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Broadband transmission masks for EUV proximity and interference lithography. ⺠Technology for free standing niobium membranes with areas up to 1 mm2. ⺠High density patterns with periods of 100 nm and structure sizes below 40 nm. ⺠Measured diffraction efficiency at 11 nm is in agreement with the theory. ⺠Produced masks can be effectively used with wavelengths between 6 nm and 17 nm.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 15, 31 May 2012, Pages 5080-5085
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 15, 31 May 2012, Pages 5080-5085
نویسندگان
S. Brose, S. Danylyuk, L. Juschkin, C. Dittberner, K. Bergmann, J. Moers, G. Panaitov, St. Trellenkamp, P. Loosen, D. Grützmacher,