کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669861 | 1008842 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Capacitorless single transistor dynamic random-access memory devices fabricated on silicon-germanium-on-insulator substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Single transistor dynamic random-access memory (1T-DRAM) was demonstrated. ⺠Silicon-on-insulator (SOI) and SiGe-on-insulator (SGOI) 1T-DRAM were investigated. ⺠SGOI 1T-DRAM showed superior electric performance to SOI 1T-DRAM. ⺠High-temperature annealing improved the performance of SGOI 1T-DRAM.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 19, 31 July 2012, Pages 6268-6273
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 19, 31 July 2012, Pages 6268-6273
نویسندگان
Seung-Min Jung, Won-Ju Cho,