کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10669861 1008842 2012 6 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Capacitorless single transistor dynamic random-access memory devices fabricated on silicon-germanium-on-insulator substrates
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Capacitorless single transistor dynamic random-access memory devices fabricated on silicon-germanium-on-insulator substrates
چکیده انگلیسی
► Single transistor dynamic random-access memory (1T-DRAM) was demonstrated. ► Silicon-on-insulator (SOI) and SiGe-on-insulator (SGOI) 1T-DRAM were investigated. ► SGOI 1T-DRAM showed superior electric performance to SOI 1T-DRAM. ► High-temperature annealing improved the performance of SGOI 1T-DRAM.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 19, 31 July 2012, Pages 6268-6273
نویسندگان
, ,