| کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
|---|---|---|---|---|
| 10669962 | 1008845 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Thermal properties of TiO2 films grown by atomic layer deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We study thermal properties of TiO2 films grown by atomic layer deposition (ALD). ⺠dn/dT is negative for thin films and takes positive values for relatively thicker ones. ⺠Films are denser than ones grown by other techniques such as evaporation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5442-5446
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5442-5446
نویسندگان
M.R. Saleem, P. Silfsten, S. Honkanen, J. Turunen,