کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10669965 1008845 2012 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of oxygen stoichiometry on resistive switching properties in amorphous tungsten oxide films
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Effects of oxygen stoichiometry on resistive switching properties in amorphous tungsten oxide films
چکیده انگلیسی
► We report on bipolar-type resistive switching memory performance in WO3 + δ films. ► Resistive switching properties of WO3 + δ films depend on oxygen contents. ► The low-resistance state is due to metallic conducting channels. ► The switching mechanism stems from electroforming and rupture of conducting filaments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5451-5454
نویسندگان
, , , , , , ,