کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669965 | 1008845 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of oxygen stoichiometry on resistive switching properties in amorphous tungsten oxide films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠We report on bipolar-type resistive switching memory performance in WO3 + δ films. ⺠Resistive switching properties of WO3 + δ films depend on oxygen contents. ⺠The low-resistance state is due to metallic conducting channels. ⺠The switching mechanism stems from electroforming and rupture of conducting filaments.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5451-5454
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5451-5454
نویسندگان
B.U. Jang, A.I. Inamdar, Jongmin Kim, Woong Jung, Hyunsik Im, Hyungsang Kim, J.P. Hong,