کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1664406 | 1008756 | 2015 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atom probe tomography study on Ge1 â x â ySnxCy hetero-epitaxial film on Ge substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Atom probe tomography study on Ge1 â x â ySnxCy hetero-epitaxial film on Ge substrates Atom probe tomography study on Ge1 â x â ySnxCy hetero-epitaxial film on Ge substrates](/preview/png/1664406.png)
چکیده انگلیسی
We analyzed the incorporation of C atoms into a ternary alloy Ge1 â x â ySnxCy epitaxial film on Ge substrates on a sub-nanometer scale by using atom probe tomography. Periodic atom distributions from individual (111) atomic planes were observed both in the Ge1 â x â ySnxCy film and at the Ge substrates. Sn/C atoms had non-uniform distributions in the film. They also demonstrated a clear positive correlation in their distributions. Substitutional C atoms were only incorporated into the film when an Sn atom beam was applied onto the substrates under film growth conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 592, Part A, 1 October 2015, Pages 54-58
Journal: Thin Solid Films - Volume 592, Part A, 1 October 2015, Pages 54-58
نویسندگان
Eiji Kamiyama, Koji Sueoka, Kengo Terasawa, Takashi Yamaha, Osamu Nakatsuka, Shigeaki Zaima, Koji Izunome, Kazuhiko Kashima, Hiroshi Uchida,