کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1665448 1518046 2014 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Microstructural characterisation of tungsten coatings deposited using plasma sputtering on Si substrates
ترجمه فارسی عنوان
خصوصیات میکرو سازمانی پوشش های تنگستن که با استفاده از پاشش پلاسما بر روی سی دی های پوسته پوشیده شده است
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Nanostructured W thin films synthesized by RF Plasma system have been characterized. These coatings may have appeal for functional applications, e.g. in corrosion resistance and barrier film. The role of the some process parameters, like pressure and sputter gas, has been investigated. We have shown that the microstructure (α and β-W phase) can be tuned as a function of the sputter gas and substrate pretreatment.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 558, 2 May 2014, Pages 189-193
نویسندگان
, , , , ,