کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667049 | 1008840 | 2012 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Evaluation of depth distribution and characterization of nanoscale Ta/Si multilayer thin film structures
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Evaluation of depth distribution and characterization of nanoscale Ta/Si multilayer thin film structures Evaluation of depth distribution and characterization of nanoscale Ta/Si multilayer thin film structures](/preview/png/1667049.png)
چکیده انگلیسی
⺠Precise depth evaluation of nanoscale multilayer thin film structure of Ta/Si. ⺠Comparison of thickness measured by different surface analytical techniques. ⺠Effect of ion beam induced atomic mixing during depth profiling. ⺠Measurement limitations of different techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 20, 1 August 2012, Pages 6409-6414
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 20, 1 August 2012, Pages 6409-6414
نویسندگان
B.R. Chakraborty, S.K. Halder, K.K. Maurya, A.K. Srivastava, V.K. Toutam, M.K. Dalai, G. Sehgal, S. Singh,