کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1668518 | 1008870 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electronic structure and crystallinity of the HfO2–TiO2 thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The effects of TiO2 on the band structure and the crystallinity of the HfO2 were studied. The bandgap energy decreases by increasing TiO2 concentration. The shift in the valence band edge and the conduction band edge are due to the changes in electronic band structures and in microstructure. First principle calculations were carried out on the electronic band structures. Our experimental results confirmed the theoretical studies.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 24, Supplement, 1 October 2010, Pages e107–e110
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 24, Supplement, 1 October 2010, Pages e107–e110
نویسندگان
Yew Von Lim, Ten It Wong, Shijie Wang,