کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1669148 | 1008879 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposited dielectrics on metal thin films using silicon and glass substrates for hot electron-induced electrochemiluminescence
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Deposited dielectrics on metal thin films using silicon and glass substrates for hot electron-induced electrochemiluminescence Deposited dielectrics on metal thin films using silicon and glass substrates for hot electron-induced electrochemiluminescence](/preview/png/1669148.png)
چکیده انگلیسی
Electrochemiluminescence by tunnel emission of hot electrons into aqueous solution is a sensitive method for detection of luminophores e.g. rare-earth chelates, which may be used as labels in bioassays. Electrons are injected into solution from an insulating film-coated working electrode, working against a platinum counter electrode. Conductive silicon electrodes with various tunnel dielectric materials e.g. thermal oxide have been used in previous work. In this paper we explore the use of metal thin film electrodes on silicon and glass substrates, using tunneling dielectrics of aluminum oxide and silicon dioxide made by the low-temperature processes of atomic layer deposition or plasma-enhanced chemical vapor deposition.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 519, Issue 1, 29 October 2010, Pages 430–433
Journal: Thin Solid Films - Volume 519, Issue 1, 29 October 2010, Pages 430–433
نویسندگان
Antti J. Niskanen, Tiina Ylinen-Hinkka, Matti Pusa, Sakari Kulmala, Sami Franssila,