کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1670126 | 1008896 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of nanoporous silicon dioxide thin films using porous alumina substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this paper, we report a cost-effective and highly reproducible method for the deposition of porous SiO2 thin films by using commercially available porous alumina membranes and radio-frequency magnetron sputtering method. Due to the porous surface of the substrate and its narrow and long channels, the SiO2 thin films partially cover the pores of the alumina membranes and self-organized porous network structures are formed. The pore size depends on the thickness of the films. The morphology of the thin films consists of patterned islands which gradually coalesce together during the growth of the thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 2, 28 November 2008, Pages 622–625
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 2, 28 November 2008, Pages 622–625
نویسندگان
Feng Chen, Adrian H. Kitai,