کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673068 | 1008943 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Challenges in etch: What's new?
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Challenges, new and old, are outlined for etching at the 45 nm technology node and below. The over-riding challenges pertain to improving selectivity over a wider range of materials and topographies and predicting pattern density behavior to reduce cost in mask design.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 11, 1 April 2008, Pages 3493–3496
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 11, 1 April 2008, Pages 3493–3496
نویسندگان
Richard A. Gottscho, K. Nojiri, J. LaCara,