کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673711 | 1008952 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
New application of Cat-CVD technology and recent status of industrial implementation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Recent progress in application of Cat-CVD (Hot Wire CVD) technology is overviewed, along with recent status of industrial implementation of this technology. Although the use of Cat-CVD technology in factories has not been open to the public, the technology appears to fit for the fabrication of ultra-high frequency devices of compound semiconductors, compound semiconductor lasers, solar cells, and formation of coating films for other devices. The issues for practical use of this technology are also discussed, together with promising future of this Cat-CVD technology.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 12, 30 April 2009, Pages 3420–3423
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 12, 30 April 2009, Pages 3420–3423
نویسندگان
Hideki Matsumura, Keisuke Ohdaira,