کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673729 | 1008952 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Silicon nanorods prepared by glancing angle catalytic chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Vertically oriented amorphous and microcrystalline Si nanorods grown on different substrates were successfully obtained by Cat CVD with the glancing angle incident silane flux at low temperatures. The influences of the substrate type, substrate temperature, post treatment and hydrogen dilution on the microstructure of Si nanorods were investigated. The density and diameter of nanorods are varying with the substrates. The hydrogen dilution of silane dominates the crystallization of Si nanorods rather than high substrate temperature at 550 °C and annealing at 900 °C in nitrogen for 6 h. The crystallized Si nanorods with crystalline volume fraction, Xc, of 0.55 were achieved under a low substrate temperature of 140 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 12, 30 April 2009, Pages 3492–3495
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 12, 30 April 2009, Pages 3492–3495
نویسندگان
Yanhong Ma, Fengzhen Liu, Meifang Zhu, Penggang Yin,