کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1675619 1008982 2006 4 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Wet and dry etching of La0.67(Sr,Ca)0.33 MnO3 films on Si
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Wet and dry etching of La0.67(Sr,Ca)0.33 MnO3 films on Si
چکیده انگلیسی

We report etching processes of epitaxial La0.67(Sr,Ca)0.33 MnO3 (LSCMO) colossal magnetoresistive (CMR) films grown on Bi4Ti3O12/CeO2/YSZ oxide-buffered Si using buffered HF (BHF), potassium hydroxide (KOH) and Ar ion beam etching (IBE) methods. LSCMO films demonstrate high resistivity against the KOH etchant whereas 22 nm/min etching rate was obtained in the BHF with high selectivity over photoresist and Si. Compared to 24 nm/min for Si, Ar IBE yields 16 nm/min etching rate for the LSCMO film and the oxide-buffer layers.

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 2, 25 October 2006, Pages 587–590
نویسندگان
, ,