کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1675619 | 1008982 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Wet and dry etching of La0.67(Sr,Ca)0.33 MnO3 films on Si
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
We report etching processes of epitaxial La0.67(Sr,Ca)0.33 MnO3 (LSCMO) colossal magnetoresistive (CMR) films grown on Bi4Ti3O12/CeO2/YSZ oxide-buffered Si using buffered HF (BHF), potassium hydroxide (KOH) and Ar ion beam etching (IBE) methods. LSCMO films demonstrate high resistivity against the KOH etchant whereas 22 nm/min etching rate was obtained in the BHF with high selectivity over photoresist and Si. Compared to 24 nm/min for Si, Ar IBE yields 16 nm/min etching rate for the LSCMO film and the oxide-buffer layers.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 2, 25 October 2006, Pages 587–590
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 2, 25 October 2006, Pages 587–590
نویسندگان
Joo-Hyung Kim, Alexander M. Grishin,