کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1676995 | 1518094 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Maskless etching of microstructures using a scanning microplasma etcher
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Maskless etching of microstructures using a scanning microplasma etcher Maskless etching of microstructures using a scanning microplasma etcher](/preview/png/1676995.png)
چکیده انگلیسی
Localized etching of silicon wafers has been studied using a scanning atmospheric-pressure microplasma jet. Effects of the nozzle height, Ar and SF6 gas flow rates and the scan speed of the microplasma jet have been investigated to clarify the fundamental characteristics of scanning microplasma processing. Maskless pattern etching according to the CAD data has been successfully carried out using a prototype of the scanning microplasma jet (SMPJ) etcher. Line art etching, flat thinning of the local area, and pseudo-three dimensional etching has been demonstrated to show its promising potential as a rapid microfabrication tool.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volumes 506–507, 26 May 2006, Pages 235–238
Journal: Thin Solid Films - Volumes 506–507, 26 May 2006, Pages 235–238
نویسندگان
Takuya Ideno, Takanori Ichiki,