کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466054 | 1517976 | 2017 | 57 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Defect growth in multilayer chromium nitride/niobium nitride coatings produced by combined high power impulse magnetron sputtering and unbalance magnetron sputtering technique
ترجمه فارسی عنوان
رشد نقص در پوشش های نیترید کروم نیترید / نایوبیوم چند لایه تولید شده توسط اسپکترومغناطیسی مگنترون با استفاده از ترکیبی با قدرت بالا و عدم توازن روش اسپکترومغناطیسی مگنترون
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
The defect density calculation indicated that the defect density of HIPIMS/UBM coatings increased (from 0.48 to 3.18%) with the coating thickness. A coating produced in a relatively clean chamber had a lower defect density. Potentiodynamic polarisation experiments showed that the fluctuation in corrosion currents in HIPIMS/UBM coatings reduced with the coating thickness. This indicated that though visible on the surface, most of these defects did not penetrate thorough the whole thickness of the coating.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 636, 31 August 2017, Pages 558-566
Journal: Thin Solid Films - Volume 636, 31 August 2017, Pages 558-566
نویسندگان
Barnali Biswas, Yashodhan Purandare, Arunprabhu A. Sugumaran, Daniel A.L. Loch, Stuart Creasey, Imran Khan, Arutiun P. Ehiasarian, Papken E. Hovsepian,