کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466104 | 1517981 | 2017 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of nanoporous noble metal thin films by O2 plasma dealloying
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Fabrication of nanoporous noble metal thin films by O2 plasma dealloying Fabrication of nanoporous noble metal thin films by O2 plasma dealloying](/preview/png/5466104.png)
چکیده انگلیسی
In this study, 300Â nm thick nanoporous (np) noble metal thin films containing mesopores (2-50Â nm) or macropores (>Â 50Â nm) were fabricated by O2 plasma dealloying of sputter-deposited noble metal-carbon thin films. Noble metal-carbon thin films of 500Â nm thickness were deposited on Si wafer substrates, and the target power was controlled to obtain a proper compositional ratio. Subsequently, O2 plasma dealloying was performed to selectively remove carbon atoms, thereby forming the np structure. Using this method, we successfully fabricated various np thin films of noble metals, such as Au, Ag and Pt.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 631, 1 June 2017, Pages 147-151
Journal: Thin Solid Films - Volume 631, 1 June 2017, Pages 147-151
نویسندگان
Geun-Hyuk Lee, Sehoon An, Seong Woo Jang, Sehoon Hwang, Sang Ho Lim, Seunghee Han,