کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466201 | 1517989 | 2017 | 27 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Temperature coefficient of resistance and thermal expansion coefficient of 10-nm thick gold films
ترجمه فارسی عنوان
ضریب مقاومت دما و ضریب انبساط حرارتی فیلمهای طلای 10 نانومتری
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
ضریب انبساط حرارتی، ضریب مقاومت دما، طلا، فیلم های نازک
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
A methodology to simultaneously estimate the temperature coefficient of resistance (αR) and the thermal expansion coefficient (αT) of metallic films with thickness in the nanometric range in a film/substrate system is discussed. An analytical model which takes into account the thermo-resistivity and the piezo-resistivity effects to estimate αR and αT of metallic films from experimental data obtained at room conditions is proposed. The methodology is first validated by using 100-nm thick Au films which yields values close to the bulk, providing confidence on the reported values. The proposed methodology was used to obtain αR and αT of 10-nm thick Au films deposited by thermal evaporation with three deposition rates onto two substrates. The results show that for 10-nm thick Au films αR presents similar values than previous reports, meanwhile αT is between 5 and 6 times higher than the corresponding bulk value; the arrangement of the atoms during the films deposition yields only minor variation in such a thermal parameter.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 623, 1 February 2017, Pages 84-89
Journal: Thin Solid Films - Volume 623, 1 February 2017, Pages 84-89
نویسندگان
A.I. Oliva, J.M. Lugo, R.A. Gurubel-Gonzalez, R.J. Centeno, J.E. Corona, F. Avilés,