کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8033216 | 1517967 | 2018 | 16 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanomechanical properties of ion induced Si ripple patterns
ترجمه فارسی عنوان
خواص نانومکانیکای الگوهای موجی ناشی از یون موجب می شود
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
We report the nano-mechanical properties of ion beam induced physicochemically periodic nanostructured silicon surfaces. The periodic nano-ripple structures are developed by 8Â keV nitrogen ion (N+) bombardment at an oblique angle. During structure formation the nitrogen atoms are preferentially implanted at one side of the ripples, resulting in a chemical periodicity following the morphological period. X-ray photoelectron spectroscopy measurements of N+ bombarded Si surface show that the implanted nitrogen atoms form silicon nitride at the implanted zones. Atomic force microscopy height measurement shows the periodic ripple structure while the force distance curve at every point reveals spatially resolved periodic elastic modulus and adhesion properties due to site-selective nitrogen implantation and subsequent nitride formation.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 645, 1 January 2018, Pages 265-268
Journal: Thin Solid Films - Volume 645, 1 January 2018, Pages 265-268
نویسندگان
S. Bhattacharjee, D. Lavanyakumar, V. Naik, S. Mondal, S.R. Bhattacharyya, P. Karmakar,