کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8035186 1518048 2014 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structural, electrical and optical properties of radio frequency sputtered indium tin oxide thin films modified by annealing in silicon oil and vacuum
ترجمه فارسی عنوان
خواص ساختاری، الکتریکی و اپتیکی فرکانس رادیویی اسپکتروفتومتر ورق های نازک اکسید قلع منیزیم اصلاح شده توسط آنیلینگ در روغن سیلیکون و خلاء
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Indium tin oxide thin films (thickness ~ 300 nm) have been deposited on glass at the substrate temperature of 65 °C by radio frequency magnetron sputtering with the power density of 1.25 W cm− 2 under argon atmosphere and annealed subsequently in silicon oil at 200° and 350 °C to investigate systematically the effects on their structural, optical and electrical properties. As-deposited thin films after annealing at 350 °C exhibit marked changes in the microstructure with emergence of crystallites (average size ~ 51 nm), high optical transmittance (~ 86%) in the visible range, and electrical resistivity as low as 1.24 × 10− 3 Ω-cm with high figure of merit of 5.35 × 10− 3 Ω− 1 square - indicating their suitability as transparent conducting anode for opto-electronic devices. Further, the above findings are compared with those observed in case of films annealed in vacuum (~ 4 × 10− 4 Pa) at 350 °C.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 556, 1 April 2014, Pages 253-259
نویسندگان
, , ,