کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8036162 | 1518058 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Random reactive ion etching texturing techniques for application of multicrystalline silicon solar cells
ترجمه فارسی عنوان
تکنیک های متناقض تصادفی یون اکتیو واکنش پذیر برای استفاده از سلول های خورشیدی سیلیکون چند پلاستیک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
بازده تبدیل، سلول خورشیدی سیلیکون چندپخشی، اکتیو یونی واکنشی برداشت زباله اره، تله نور،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠Surface texturing of multicrystalline silicon wafers ⺠Improvement of the trapping of incident light ⺠Random reactive ion etching texturing method using SF6/O2 plasma chemistry ⺠Low cost and high efficiency in conventional industrial production line
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 546, 1 November 2013, Pages 275-278
Journal: Thin Solid Films - Volume 546, 1 November 2013, Pages 275-278
نویسندگان
Jinsu Yoo, Jun-Sik Cho, SeJin Ahn, Jihye Gwak, Ara Cho, Young-Joo Eo, Jae-Ho Yun, Kyunghoon Yoon, Junsin Yi,