کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8036993 | 1518072 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High rate low pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition for barrier and optical coatings
ترجمه فارسی عنوان
مخلوط بخار شیمیایی با فشار بالا با پلاسمای بالا برای پوشش های نازک و نوری
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at pressure less than 5 Pa ⺠Magnetron based magPECVD process with dynamic coating rates up to 400 nm m/min ⺠Hollow cathode arc based arcPECVD process shows up to 2700 nm m/min. ⺠Both processes can be used inline to sputtering for optical or barrier stacks. ⺠The so prepared coating stacks showed nearly no layer stress.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 44-49
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 44-49
نویسندگان
Steffen Günther, Matthias Fahland, John Fahlteich, Björn Meyer, Steffen Straach, Nicolas Schiller,