کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی ترجمه فارسی نسخه تمام متن
8036993 1518072 2013 6 صفحه PDF سفارش دهید دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High rate low pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition for barrier and optical coatings
ترجمه فارسی عنوان
مخلوط بخار شیمیایی با فشار بالا با پلاسمای بالا برای پوشش های نازک و نوری
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
سفارش ترجمه تخصصی
با تضمین قیمت و کیفیت
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
► Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at pressure less than 5 Pa ► Magnetron based magPECVD process with dynamic coating rates up to 400 nm m/min ► Hollow cathode arc based arcPECVD process shows up to 2700 nm m/min. ► Both processes can be used inline to sputtering for optical or barrier stacks. ► The so prepared coating stacks showed nearly no layer stress.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 44-49
نویسندگان
, , , , , ,
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
سفارش ترجمه تخصصی
با تضمین قیمت و کیفیت