کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8037070 | 1518072 | 2013 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sputtering of dielectric single layers by metallic mode reactive sputtering and conventional reactive sputtering from cylindrical cathodes in a sputter-up configuration
ترجمه فارسی عنوان
پراش لایه های دی الکتریک تک لایه توسط روش اسپری فلز واکنش مایع و اسپکترومیک واکنش معمولی از کاتد های استوانه ای در پیکربندی اسپورت
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
اسپرد، استوانه ای، نوری، دقت پوشش ها، مگنترون، هدف، ذرات،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠Cylindrical magnetrons can be well used in a sputter up configuration. ⺠Cylindrical magnetrons were used to create transparent oxide layers. ⺠Metallic mode reactive sputtering yields bulk-like refractive indexes. ⺠Ta2O5 and SiO2 growth is driven by different parameters.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 98-105
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 98-105
نویسندگان
Daniel Rademacher, Tobias Zickenrott, Michael Vergöhl,