کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8037070 1518072 2013 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sputtering of dielectric single layers by metallic mode reactive sputtering and conventional reactive sputtering from cylindrical cathodes in a sputter-up configuration
ترجمه فارسی عنوان
پراش لایه های دی الکتریک تک لایه توسط روش اسپری فلز واکنش مایع و اسپکترومیک واکنش معمولی از کاتد های استوانه ای در پیکربندی اسپورت
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
► Cylindrical magnetrons can be well used in a sputter up configuration. ► Cylindrical magnetrons were used to create transparent oxide layers. ► Metallic mode reactive sputtering yields bulk-like refractive indexes. ► Ta2O5 and SiO2 growth is driven by different parameters.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 98-105
نویسندگان
, , ,