کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8037135 | 1518073 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth of N-polar GaN Using a CrN buffer layer on (0001) Al2O3 via plasma-assisted molecular beam epitaxy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Demonstration of N-polar GaN growth on sapphire using CrN buffer layer. ⺠Polarity selection model proposed to explain the experimental observations. ⺠Improvement of N-polar GaN crystallinity with thermal treatment of CrN layers.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 531, 15 March 2013, Pages 88-92
Journal: Thin Solid Films - Volume 531, 15 March 2013, Pages 88-92
نویسندگان
Jinsub Park, Takafumi Yao,