کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812370 | 1518112 | 2005 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Production solutions in excimer laser thin film crystallization
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Excimer laser crystallization of thin film amorphous silicon has become a key technology in manufacturing of high-resolution low-power consumption thin film transistor displays. Lambda Physik and its Beam Delivery Systems Department MicroLas are leading the efforts to develop complete laser-optical system solutions comprising uniformity, productivity and economic aspects of this UV-laser process. This paper will present latest achievements in high-power excimer laser and illuminator design to address the production requirements of thin film crystallization and will look at challenges to meet future requirements.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 85-88
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 85-88
نویسندگان
J. Brune, B. Nikolaus, F. Simon,