کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812382 | 1518112 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Simulation of carbon containing complexes at silicon-silicon grain boundaries in cluster approximation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The transformation of the “core” for the tilt Σ5 θ=37° [001]/(130) grain boundary (GB) in polycrystalline silicon due to incorporation of carbon atoms is studied with a method of molecular orbital-linear combinations of atomic orbital (MO LCAO) in PM3 approximation. Insertion of carbon atoms into 5- or 7-fold interstitial positions at GB “core” formed donor-like complexes which are composed of combined Si2C, Si3C or Si4C configurations depending on number x of incorporated C-atoms. Energy levels of such complexes are shifted to the bottom of the conductive band from EC-0.536 eV to EC-0.043 eV with increasing x from 1 to 4.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 142-146
Journal: Thin Solid Films - Volume 487, Issues 1â2, 1 September 2005, Pages 142-146
نویسندگان
A.L. Pushkarchuk, A.M. Saad, A.K. Fedotov, S.A. Kuten,