کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812516 | 1518115 | 2005 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of the Ar/O2 ratio on the growth and biaxial alignment of yttria stabilized zirconia layers during reactive unbalanced magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
By tilting the substrate with respect to the sputter source, an in-plane aligned YSZ layer was obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 484, Issues 1â2, 22 July 2005, Pages 18-25
Journal: Thin Solid Films - Volume 484, Issues 1â2, 22 July 2005, Pages 18-25
نویسندگان
S. Mahieu, P. Ghekiere, G. De Winter, D. Depla, R. De Gryse, O.I. Lebedev, G. Van Tendeloo,