کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9812516 1518115 2005 8 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influence of the Ar/O2 ratio on the growth and biaxial alignment of yttria stabilized zirconia layers during reactive unbalanced magnetron sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Influence of the Ar/O2 ratio on the growth and biaxial alignment of yttria stabilized zirconia layers during reactive unbalanced magnetron sputtering
چکیده انگلیسی
By tilting the substrate with respect to the sputter source, an in-plane aligned YSZ layer was obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 484, Issues 1–2, 22 July 2005, Pages 18-25
نویسندگان
, , , , , , ,