کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812685 | 1518117 | 2005 | 11 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Comparative study of the structure of a-CNx and a-CNx:H films using NEXAFS, XPS and FT-IR analysis
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Comparative study of the structure of a-CNx and a-CNx:H films using NEXAFS, XPS and FT-IR analysis Comparative study of the structure of a-CNx and a-CNx:H films using NEXAFS, XPS and FT-IR analysis](/preview/png/9812685.png)
چکیده انگلیسی
The combination of both characterizations FT-IR and NEXAFS may leave the controversy about the interpretation of the XPS spectra, and allows a fine analysis of the evolution of the local structure as a function of nitrogen incorporation, according to the hydrogen concentration into the films. Fundamental differences can be revealed between hydrogenated and hydrogen-free carbon nitride: in the former, hydrogen promotes double bonds CNH, whereas in the latter nitrogen atoms prefer to substitute to carbon or interconnect aromatic rings through single bonds (>CN). A strong conjugation of imines (NCNH) for PECVD film and nitrile (NCN) groups for hydrogen-free films is evidenced.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1â2, 22 June 2005, Pages 156-166
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1â2, 22 June 2005, Pages 156-166
نویسندگان
B. Bouchet-Fabre, K. Zellama, C. Godet, D. Ballutaud, T. Minéa,