کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9812686 | 1518117 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Spectroscopic study using FTIR, Raman, XPS and NEXAFS of carbon nitride thin films deposited by RF magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
A good correlation is observed between the evolution of the Ï* electron states as calculated from NEXAFS, the evolution of the sp2 bonding of carbon observed in XPS, and the evolution of the electrical and optical properties of the films. These results combined with FTIR and Raman analysis and the elemental composition determined by nuclear microanalysis allow to follow the evolution of the local structure with the deposition conditions in a-CNx films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1â2, 22 June 2005, Pages 167-171
Journal: Thin Solid Films - Volume 482, Issues 1â2, 22 June 2005, Pages 167-171
نویسندگان
B. Bouchet-Fabre, E. Marino, G. Lazar, K. Zellama, M. Clin, D. Ballutaud, F. Abel, C. Godet,