کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
9813000 | 1518123 | 2005 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electrical conductivity as a measure of the continuity of titanium and vanadium thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We investigate titanium (Ti) and vanadium (V) film growth on amorphous carbon (a-C) and silicon oxide (SiO2) substrates using in situ electrical conductivity measurements and electron microscopy. The aim is to determine the minimum thickness of a continuous layer so that multilayer coatings of fine period can be constructed. We applied a model for thin film metallic conduction to develop a criterion for the onset of electrical continuity. We found that this onset coincides with the minimum in a curve of Rt2 as a function t, where R is the film resistance and t is the film thickness. For these film/substrate combinations, we found minimum layer thicknesses of between 2.5 and 3 nm are possible.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 474, Issues 1â2, 1 March 2005, Pages 341-345
Journal: Thin Solid Films - Volume 474, Issues 1â2, 1 March 2005, Pages 341-345
نویسندگان
F.A. Burgmann, S.H.N. Lim, D.G. McCulloch, B.K. Gan, K.E. Davies, D.R. McKenzie, M.M.M. Bilek,