کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669787 | 1008839 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dependence of catalytic properties of indium-implanted SiO2 thin films on the energy and dose of incident indium ions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Indium implanted SiO2 thin film formed by ion beam injection catalyzes a reaction. ⺠Dependence of catalytic properties on incident energy and dose is investigated. ⺠There is an optimal ion energy and ion dose in the film preparation process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 15, 31 May 2012, Pages 4894-4897
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 15, 31 May 2012, Pages 4894-4897
نویسندگان
S. Yoshimura, M. Kiuchi, Y. Nishimoto, M. Yasuda, A. Baba, S. Hamaguchi,