کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669935 | 1008845 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The critical oxide thickness for Pb-free reflow soldering on Cu substrate
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Critical oxide thickness for Pb free solder on Cu substrate is 18 ± 5 nm. ⺠Above the critical oxide, non-wet solder joint increases exponentially. ⺠A maximum 13-nm oxide thickness is suggested for good solder joint. ⺠Initial growth of oxide thickness is logarithmic and then parabolic after 12 nm. ⺠Thick oxide (360-560 nm) is formed as pores shorten the oxidation path.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5346-5352
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5346-5352
نویسندگان
C. Key Chung, Y.J. Chen, C.C. Li, C.R. Kao,