کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667169 | 1008844 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Pulsed laser deposition of epitaxial ferroelectric Pb(Zr,Ti)O3 films on silicon substrates
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Pulsed laser deposition of epitaxial ferroelectric Pb(Zr,Ti)O3 films on silicon substrates Pulsed laser deposition of epitaxial ferroelectric Pb(Zr,Ti)O3 films on silicon substrates](/preview/png/1667169.png)
چکیده انگلیسی
We report on the epitaxial growth and electrical properties of Pb0.52Zr0.48TiO3 (PZT) thin films deposited by Pulsed Laser Deposition (PLD) on SrTiO3 (STO)-buffered Si(001). Previously to PZT growth, 40 nm-thick (La,Sr)MnO3 (LSMO) layer was deposited to serve as electrical bottom electrode. The 200 nm-thick PZT film epitaxy was optimized by PLD on STO-buffered Si(001).The high contrast of stable artificially poled ferroelectric surfaces evidences the good ferroelectric properties of the PZT thin film. The structural as well as the physical properties of the PZT/LSMO/STO/Si(001) structure prove that very good quality layers have been obtained for films grown on silicon substrate.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 14, 1 May 2012, Pages 4604–4607
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 14, 1 May 2012, Pages 4604–4607
نویسندگان
A.S. Borowiak, G. Niu, V. Pillard, G. Agnus, Ph. Lecoeur, D. Albertini, N. Baboux, B. Gautier, B. Vilquin,