کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1671769 | 1008923 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effect of the substrate temperature on zirconium oxynitride thin films deposited by water vapour–nitrogen radiofrequency magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
Zirconium oxynitride - اکسین نیترید زیرکونیومsecondary ion mass spectrometry - طیف سنجی جرم یونی ثانویه یا طیف نگاری جرم یونی ثانویهTransmission electron microscopy - میکروسکوپ الکترونی عبوریatomic force microscopy - میکروسکوپ نیروی اتمیX-ray diffraction - پراش اشعه ایکسMagnetron sputtering - کندوپاش مگنترون
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
ZrNx films were deposited by radiofrequency reactive magnetron sputtering technique in nitrogen and water vapour atmosphere varying the working temperature from room temperature to 600 °C. The films' physical properties were investigated using X-ray diffraction, Secondary Ion Mass Spectroscopy, Atomic Force Microscopy and Transmission Electron Microscopy. It was found that the increase of temperature caused a decrease in the oxygen incorporation and a transition from cubic phase of Zr2ON2 to ZrN one. The formation of nanosized crystalline particles dispersed in the amorphous matrix was observed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 8, 1 February 2010, Pages 1943–1946
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 8, 1 February 2010, Pages 1943–1946
نویسندگان
M.A. Signore, A. Rizzo, L. Tapfer, E. Piscopiello, L. Capodieci, A. Cappello,