کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466023 | 1517976 | 2017 | 22 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Electroless deposition of CoBW coatings using morpholine borane as a reducing agent
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
It has been determined, that the rate of electroless deposition of the CoBW coatings and their composition depends on the concentration of disodium tungstate and reducing agent, as well as on pH and temperature of the plating solution. Electroless deposition of the CoBW coatings can be performed in a wide temperature range from 30 to 70 °C. Changing conditions of the electroless deposition of CoBW the coatings containing 5.5 to 16 at.% of boron and 5 to 14 at.% of tungsten can be obtained.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 636, 31 August 2017, Pages 425-430
Journal: Thin Solid Films - Volume 636, 31 August 2017, Pages 425-430
نویسندگان
Z. SukackienÄ, L. TamaÅ¡auskaitÄ-TamaÅ¡iÅ«naitÄ, V. JasulaitienÄ, A. BalÄiÅ«naitÄ, A. Naujokaitis, E. Norkus,