Critical assessment of the determination of residual stress profiles in thin films by means of the ion beam layer removal method

استرس های باقی مانده و توزیع آنها در لایه های فردی یک نگرانی عمومی در تکنولوژی فیلم نازک است. در اینجا ما از یک روش حذف اخیر لایه برش یونی برای تعیین مشخصات استرس در یک سیستم فیلم نازک استفاده می کنیم. این سیستم شامل یک تنگستن نیتروژن تیتانیوم و فیلم نیتروژن تیتانیوم است که در یک بستر سیلیکونی پوشیده شده است. تنش ها بر اساس انحراف از یک تسمه نقاشی شده با ماشین برش یونی متمرکز با استفاده از تئوری پرتوهای اویلر-برنولی و شبیه سازی عناصر محدود همراه با الگوریتم های بهینه سازی شده محاسبه می شود و نتایج حاصل از دو روش به طور انتقادی مقایسه می شود. مطالعات موردی با در نظر گرفتن تغییرات مربوط به تولید در هندسه کانتینر، شرایط مرزی مختلف و آرام سازی در حین ساخت قیچی انجام می شود. ما دریافتیم که توزیع تنش در سیستم فیلم نازک به شدت تحت تاثیر شرایط مرزی و ساخت کانتینر است، در حالیکه تغییرات مربوط به تولید در هندسه کانتینری تنها کمی بر توزیع تنش تاثیر می گذارد.