دانلود مقالات ISI درباره دی الکتریک بالا K + ترجمه فارسی

2 MeV electron irradiation effects on the electrical characteristics of metal–oxide–silicon capacitors with atomic layer deposited Al2O3, HfO2 and nanolaminated dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Electron irradiation effects; High-k dielectrics; Al2O3; HfO2; Nanolaminate

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 10 صفحه سال انتشار : 2013 سفارش ترجمه

Dual-gate field effect transistor based on ZnO nanowire with high-K gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; ZnO nanowire; Field-effect transistor; Dual gate; High-k dielectrics;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Effective work function control of metal inserted poly-Si electrodes on HfSiO dielectrics by in-situ oxygen treatment of metal surface

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Metal electrode; In-situ process; Effective work function; Oxygen vacancy; Si diffusion

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Electrical properties of quaternary HfAlTiO thin films grown by atomic layer deposition

Keywords: دی الکتریک بالا K; Atomic layer deposition; High-k dielectrics; HfAlTiO; HfAlO

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Effect of Al incorporation on the performance and reliability of p-type metal-oxide-semiconductor field effect transistors

Keywords: دی الکتریک بالا K; Al; Al2O3; metal gate; high-k dielectrics; NBTI

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Characterization of Hafnium-Zirconium-Oxide-Nitride films grown by ion beam assisted deposition

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; HfO2; ZrO2; Structure; Optical properties

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Modeling the breakdown statistics of Al2O3/HfO2 nanolaminates grown by atomic-layer-deposition

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Percolation model; Nanolaminate gate dielectrics

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

A quantum mechanical treatment of low frequency noise in high-K NMOS transistors with ultra-thin gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; 1/f Noise model; Coulomb scattering; Surface roughness; Quantum mechanics; High-K dielectrics; Scattering; Traps;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Low-frequency noise in high-k LaLuO3/TiN MOSFETs

Keywords: دی الکتریک بالا K; Low-frequency noise; High-k dielectrics; Mobility degradation; Charge traps; Characterization

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Simulation study on 4H-SiC power devices with high-k dielectric FP terminations

Keywords: دی الکتریک بالا K; Field plate; High-k dielectrics; 4H-SiC; Breakdown;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Optimization of scandium oxide growth by high pressure sputtering on silicon

Keywords: دی الکتریک بالا K; Scandium oxide; High-k dielectrics; High pressure sputtering

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Influence of atomic layer deposition chemistry on high-k dielectrics for charge trapping memories

Keywords: دی الکتریک بالا K; SONOS; Flash; Silicon nitride; Non-volatile memories; High-k dielectrics; Hafnium oxide; Zirconium oxide

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 10 صفحه سال انتشار : 2012 سفارش ترجمه

Towards barrier height modulation in HfO2/TiN by oxygen scavenging – Dielectric defects or metal induced gap states?

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; MIM; Band alignment; HfO2; Defects; Metal induced gap states; Barrier height

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Atomic Vapor Depositions of Ti–Ta–O thin films for Metal–Insulator–Metal applications

Keywords: دی الکتریک بالا K; Titanium tantalum oxide; Metal–Insulator–Metal capacitors; Atomic Vapor Deposition; High-k dielectrics; X-ray diffraction

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

High mobility strained Si0.5Ge0.5/SSOI short channel field effect transistors with TiN/GdScO3 gate stack

Keywords: دی الکتریک بالا K; Strained Si; SiGe; High-k dielectrics; Silicon on insulator; Advanced MOSFET

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Analysis of reliability characteristics of high capacitance density MIM capacitors with SiO2–HfO2–SiO2 dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; MIM (metal–insulator–metal); High-k dielectrics; VCC (voltage coefficient of capacitance); TCC (temperature coefficient of capacitance); Bias polarity; Charge trapping and de-trapping

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Initial leakage current related to extrinsic breakdown in HfO2/Al2O3 nanolaminate ALD dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Oxide breakdown; High-K dielectrics; Oxide reliability

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Memory characteristics of multi-stacked thin films using La2O3 and LaAlO3 as charge trap layer

Keywords: دی الکتریک بالا K; Flash; ONO; Charge trap; High-k dielectrics; La2O3; LaAlO3;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Effects of localized gate stack parasitic charge on current-voltage characteristics of double-gate MOSFETs with high-permittivity dielectrics and Ge-channel

Keywords: دی الکتریک بالا K; Double-Gate MOSFET; High-k dielectrics; Numerical simulation; Parasitic charge

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Grain boundary-driven leakage path formation in HfO2 dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Grain boundaries; Trap assisted tunneling; Conductive AFM;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Electrical characterization of high-pressure reactive sputtered ScOx films on silicon

Keywords: دی الکتریک بالا K; Scandium oxide; High-k dielectrics; High-pressure sputtering; Interface states; Defects; Transmission electron microscopy; Electrical properties and measurements;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Spectroscopic ellipsometry characterization of high-k gate stacks with Vt shift layers

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Film thickness; Spectroscopic ellipsometry; Vt shift layer; Capping layer; HfO2; La2O3; X-ray reflectivity;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Hafnium silicate dielectrics fabricated by RF magnetron sputtering

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Hafnium oxide; Hafnium silicate; RF magnetron sputtering; ATR; TEM; XRD

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Charge trapping at Pt/high-k dielectric (Ta2O5) interface

Keywords: دی الکتریک بالا K; Surface charge trapping effect; High-k dielectrics; Pt gate; Silicon;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2011 سفارش ترجمه

Fabrication and electrical characteristics of ultrathin (HfO2)x(SiO2)1−x films by surface sol–gel method and reaction-anneal treatment

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; (HfO2)x(SiO2)1−x; Surface sol–gel; Reaction-anneal

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Memory characteristics of Al2O3/La2O3/Al2O3 multi-layer films with various blocking and tunnel oxide thicknesses

Keywords: دی الکتریک بالا K; SONOS; Flash; High-k dielectrics; La2O3; MOCVD

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Effect of nitrogen doping on the properties of AlSiO film for wide bandgap semiconductors

Keywords: دی الکتریک بالا K; AlSiO; Nitrogen doping; Wide bandgap and high temperature power device; High-k dielectrics; MOSFET;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Electrical properties and structure of laser-spike-annealed hafnium oxide

Keywords: دی الکتریک بالا K; Hafnium oxide; Laser-spike annealing; Charge trap; Defects; High-k dielectrics; X-ray photoelectron spectroscopy; Transmission electron spectroscopy

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Investigation of the electrical properties of the alkaline-earth oxides BaO, SrO and Ba0.7Sr0.3O on Si(001) as alternative gate dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Gate oxides; Heterostructures; Interfaces; Insulators; High-k dielectrics

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Analytical modeling of the gate tunneling leakage for the determination of adequate high-k dielectrics in double-gate SOI MOSFETs at the 22 nm node

Keywords: دی الکتریک بالا K; Compact analytical model; High-k dielectrics; Gate leakage current; Direct tunneling

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Improved properties of Pt–HfO2 gate insulator–ZnO semiconductor thin film structure by annealing of ZnO layer

Keywords: دی الکتریک بالا K; Zinc oxide; Hafnium oxide; High-k dielectrics; Oxide semiconductor; Metal-insulator-semiconductor capacitor; Annealing; Sputtering; Atomic layer deposition

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Evidence for a conduction through shallow traps in Hf-doped Ta2O5

Keywords: دی الکتریک بالا K; Hf-doped Ta2O5; High-k dielectrics; Conduction mechanisms;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 7 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Plasma–surface interactions for advanced plasma etching processes in nanoscale ULSI device fabrication: A numerical and experimental study

Keywords: دی الکتریک بالا K; Plasma etching; Cl- and Br-based plasmas; Silicon; High-k dielectrics; Metal electrode materials; Profile simulation; MD simulation; ULSI

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Recent applications of plasma-based ion implantation and deposition to microelectronic, nano-structured, and biomedical materials

Keywords: دی الکتریک بالا K; Plasma immersion ion implantation and deposition; Microelectronics; Biomaterials; High-k dielectrics; Nanotechnology;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 11 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

A new analytical method for characterising the bonding environment at rough interfaces in high-k gate stacks using electron energy loss spectroscopy

Keywords: دی الکتریک بالا K; Electron energy loss spectroscopy (EELS); Scanning transmission electron microscopy (STEM); Spectrum imaging; High-k dielectrics

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 13 صفحه سال انتشار : 2010 سفارش ترجمه

Direct comparison of the electrical properties in metal/oxide/nitride/oxide/silicon and metal/aluminum oxide/nitride/oxide/silicon capacitors with equivalent oxide thicknesses

Keywords: دی الکتریک بالا K; SONOS; SANOS; Aluminum oxide; High-k dielectrics; Flash memory

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Self-aligned n-channel GaAs metal–oxide–semiconductor field-effect transistors (MOSFETs) using HfO2 and silicon interface passivation layer: Post-metal annealing optimization

Keywords: دی الکتریک بالا K; Post-metal anneal (PMA); GaAs; Silicon interface; High-k dielectrics

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Si epitaxial growth on LaAlO3(0 0 1)

Keywords: دی الکتریک بالا K; Lanthanum aluminate; High-k dielectrics; Semiconductor-insulator interfaces; Silicon; Single crystal epitaxy;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Defects and instabilities in Hf-dielectric/SiON stacks (Invited Paper)

Keywords: دی الکتریک بالا K; Traps; PBTI; NBTI; Positive charges; Instability; Defects; HfO2; Hf-silicates; High-k dielectrics

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Performance and reliability of advanced High-K/Metal gate stacks (Invited Paper)

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-K dielectrics; Metal gate; Mobility degradation; Negative Bias Temperature Instabilities NBTI; Nitrogen; Interface defects Nit; Hole traps; Remote coulomb scattering; Dipoles

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Hysteresis in metal insulator semiconductor structures with high temperature annealed ZrO2/SiOx layers

Keywords: دی الکتریک بالا K; Thin films; Zirconia; High-k dielectrics; Annealing; Metal–insulator–semiconductor devices; Electrical properties and measurements; Sputtering

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 6 صفحه سال انتشار : 2009 سفارش ترجمه

Electrical characterization of high-k gate dielectrics on semiconductors

Keywords: دی الکتریک بالا K; Electrical characterization; High-k dielectrics; Semiconductors; MOSFET; IETS; Charge pumping; Lateral profiling;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Nanoscale electrical characterization of ultrathin high-k dielectric MOS stacks: A conducting AFM study

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Conductive atomic force microscopy; Silicon; Germanium; CMOS

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Characteristics of thin lanthanum lutetium oxide high-k dielectrics

Keywords: دی الکتریک بالا K; Lanthanum; Lutetium; High-k dielectrics; Semiconductor; Molecular beam epitaxy; Thin film deposition

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Influence of initial surface reconstruction on the interface structure of HfO2/GaAs

Keywords: دی الکتریک بالا K; 68.55.aj; 73.40.Qv; 77.55.+f; 78.68.+m; 81.05.Ea; 81.15.Ef; 85.30.Tv; High-k dielectrics; III-V semiconductor; HfO2; GaAs; MOS interface; XPS; RDS;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Combinatorial study of the crystallinity boundary in the HfO2–TiO2–Y2O3 system using pulsed laser deposition library thin films

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Combinatorial; Thin films; Reflectometry; X-ray diffraction; Nanoindentation

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Observations in trapping characteristics of positive bias temperature instability on high-k/metal gate n-type metal oxide semiconductor field effect transistor with the complementary multi-pulse technique

Keywords: دی الکتریک بالا K; Positive bias temperature stability; Pulse measurement; Detrapping; High-k dielectrics; Metal gate

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 4 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

Resistive switching effects of HfO2 high-k dielectric

Keywords: دی الکتریک بالا K; Resistive switching; High-k dielectrics; Memory device

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

HfSiO/SiO2- and SiO2/HfSiO/SiO2-gate stacks for non-volatile memories

Keywords: دی الکتریک بالا K; High-k dielectrics; Hafnium silicate; Flash memory;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 5 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه

A density functional theory study of oxygen diffusion in LaAlO3 and SrTiO3

Keywords: دی الکتریک بالا K; 66.30.−h; 77.90.+k; 85.40.−e; 66.10.Ed; 71.15.Mb; DFT; Atoms in molecules; High-k dielectrics; Oxide-ion diffusion; Electron density;

دانلود رایگان متن کامل مقاله ISI 8 صفحه سال انتشار : 2008 سفارش ترجمه