![این مقاله در پایگاه ساینس دایرکت منتشر شده است Elsevier - ScienceDirect - الزویر - ساینس دایرکت](/assets/img/Elsevier-Logo.png)
Characterization of HfOxNy thin film formation by in-situ plasma enhanced atomic layer deposition using NH3 and N2 plasmas
Keywords: لایه رابط; HfON thin film; Plasma enhanced atomic layer deposition; NH3 plasma; N2 plasma; Interfacial layer;