کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1669217 | 1008881 | 2011 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structure and composition of sputter-deposited nickel-tungsten oxide films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Films of mixed nickel-tungsten oxide, denoted NixW1−x oxide, were prepared by reactive DC magnetron co-sputtering from metallic targets and were characterized by Rutherford backscattering spectrometry, X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray diffractometry and Raman spectroscopy. A consistent picture of the structure and composition emerged, and at x < 0.50 the films comprised a mixture of amorphous WO3 and nanosized NiWO4, at x = 0.50 the nanosized NiWO4 phase was dominating, and at x > 0.50 the films contained nanosized NiO and NiWO4.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 519, Issue 7, 31 January 2011, Pages 2062–2066
Journal: Thin Solid Films - Volume 519, Issue 7, 31 January 2011, Pages 2062–2066
نویسندگان
S.V. Green, A. Kuzmin, J. Purans, C.G. Granqvist, G.A. Niklasson,