Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Low dimensional structures; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Gallium compounds; B2. Semiconducting III-V materials; B2. Quantum dots; B3. Heterojunction semiconductor devices; Molecular beam epitaxy; Heterostructure; Quantum dot; Spin; Nuclear spin; Qu
مقالات ISI B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند (ترجمه نشده)
مقالات زیر هنوز به فارسی ترجمه نشده اند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
در صورتی که به ترجمه آماده هر یک از مقالات زیر نیاز داشته باشید، می توانید سفارش دهید تا مترجمان با تجربه این مجموعه در اسرع وقت آن را برای شما ترجمه نمایند.
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Molecular beam epitaxy; A3. Semiconducting III–V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Infrared devices
Structure optimization of 266â¯nm Al0.53GaN/Al0.75GaN SQW DUV-LD
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; B2. Semiconducting aluminum compounds; B3. Laser diodes; B3. Heterojunction semiconductor devices; A3. Quantum wells;
Temperature effect on the growth of Au-free InAs and InAs/GaSb heterostructure nanowires on Si substrate by MOCVD
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Interfaces; A3. Metal organic chemical vapor deposition; B1. Nanomaterials; B1. Antimonides; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Fe-doped semi-insulating GaN with solid Fe source grown on (110) Si substrates by NH3 molecular beam epitaxy
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1.Characterization; A1.Doping; A3.Molecular beam epitaxy; B1.Nitrides; B2.Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Annealing effect of the InAs dot-in-well structure grown by MBE
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Photoluminescence; A3. Quantum dots; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Influence of growth conditions on the structural and opto-electronic quality of GaAsBi
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. High resolution X-ray diffraction; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Bismuth compounds; B2. Semiconducting ternary compounds; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Infrared devices;
Crystallinity control of SiC grown on Si by sputtering method
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Physical vapor deposition processes; B2. Semiconducting silicon compounds; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Solar cells;
Photoluminescence and the gallium problem for highest-mobility GaAs/AlGaAs-based 2d electron gases
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Characterization; A1. Photoluminescence; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Tuning emission in violet, blue, green and red in cubic GaN/InGaN/GaN quantum wells
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Quantum wells; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Comparison of semi-insulating InAlAs and InP:Fe for InP-based buried-heterostructure QCLs
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Infrared devices;
Intersubband absorption in ZnO/ZnMgO quantum wells grown by plasma-assisted molecular beam epitaxy on c-plane sapphire substrates
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Molecular beam epitaxy; A3. Quantum well; B1. Oxides; B2. Semiconducting II-VI materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Control of domain orientation during the MBE growth of ZnTe on a-plane sapphire
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. X-ray diffraction; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Zinc compounds; B1. Sapphire; B2. Semiconducting II-VI materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
The microstructure, optical and electrical property of CdZnTe thick films grown from a CSS method
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Surface processes; A3. Close-spaced sublimation; B2. CdZnTe; B2. Semiconducting II-VI materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Position-sensitive multi-wavelength photon detectors based on epitaxial InGaAs/InAlAs quantum wells
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Heterointegration of III-V on silicon using a crystalline oxide buffer layer
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Reflection high energy electron diffraction; A1. Surface structure; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Perovskites; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Modeling and process control of MOCVD growth of InAlGaAs MQW structures on InP
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Metalorganic chemical vapor deposition; A3. Organometallic vapor phase epitaxy; A3. Quantum wells; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Laser diodes;
In situ X-ray diffraction monitoring of GaInN/GaN superlattice during organometalic vapor phase epitaxy growth
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. X-ray diffraction; A3. Organometallic vapor phase epitaxy; B1. Nitrides; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Semi-insulating InP:Fe for buried-heterostructure strain-compensated quantum-cascade lasers grown by gas-source molecular-beam epitaxy
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Molecular-beam epitaxy; B2. Semiconducting III–V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Infrared devices
GaSb/ZnTe double-heterostructures grown using molecular beam epitaxy
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Characterization; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting II–VI materials; B2. Semiconducting III–V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices
MOVPE-grown InAs/AlAs0.16Sb0.84/InAs and InAs/AlAs0.16Sb0.84/GaSb heterostructures
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Crystal structure; A3. Metalorganic chemical vapor deposition; A3. Organometallic vapor phase epitaxy; B1. Nanomaterials; B1. Antimonides; B3. Heterojunction semiconductor devices
InGaAs/AlInAs strain-compensated Superlattices grown on metamorphic buffer layers for low-strain, 3.6 μm-emitting quantum-cascade-laser active regions
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Metalorganic vapor phase epitaxy; B1. Arsenates; B1. Phosphides; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Analysis of thickness modulation in GaAs/GaAsP strained superlattice by TEM observation
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Crystal structure; A2. Metalorganic vapor phase epitaxy; A3. Semiconducting III–V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices
Axial growth of Zn2GeO4/ZnO nanowire heterojunction using chemical vapor deposition
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Nanostructures; A3. Chemical vapor deposition processes; B1. Oxides; B2. Semiconducting materials; B3. Heterojunction semiconductor devices
High-uniformity InP-based resonant tunneling diode wafers with peak current density of over 6×105 A/cm2 grown by metal-organic vapor-phase epitaxy
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. X-ray diffraction; A3. Metalorganic vapor phase epitaxy; B2. Semiconducting III–V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices
Semimagnetic II-VI semiconductor resonant tunneling diodes characterized by high-resolution X-ray diffraction
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. X-ray diffraction; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting II-VI materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
On the existence of submicron diameter current shunts in morphologically perfect device layers
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A1. Defects; A1. Etching; A3. Molecular beam epitaxy; A3. Quantum wells; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
High detectivity AlGaAsSb/InGaAsSb photodetectors grown by molecular beam epitaxy with cutoff wavelength up to 2.6 μm
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Antimonides; B2. Semiconducting III–V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Infrared devices
Heteroepitaxial growth of Cu2O thin film on ZnO by metal organic chemical vapor deposition
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 81.15.Aa; 81.15.−z; 81.15.gh; 81.15.Np; 68.55.−aA1. X-ray diffraction; A3. Metal organic chemical vapor deposition; A3. Solid phase epitaxy; B1. Oxides; B2. Semiconducting materials; B3. Heterojunction semiconductor devices
Structural and optical properties of low-temperature ZnO films grown by atomic layer deposition with diethylzinc and water precursors
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 78.55.Et; 78.66.Hf; 81.15.KkA1. Characterization; A3. Atomic layer epitaxy; B1. Zinc compounds; B2. Semiconducting II–VI materials; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Solar cells
Monolithic integration of Ga(NAsP)/(BGa)P multi-quantum well structures on (0 0 1) silicon substrate by MOVPE
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; A3. Organometallic vapor-phase epitaxy; B1. Dilute nitrides; B2. Semiconducting III–V materials; B3. Laser diodes; B3. Heterojunction semiconductor devices
Lattice-matched InAlN/GaN two-dimensional electron gas with high mobility and sheet carrier density by plasma-assisted molecular beam epitaxy
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 07.79.Lh; 81.15.Hi; 73.40.−CA1. Atomic force microscopy; A1. High-resolution X-ray diffraction; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Nitrides; B3. Heterojunction semiconductor devices
Polarization-induced two-dimensional electron gas at Zn1−xMgxO/ZnO heterointerface
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 73.61.Ga; 73.21.Fg; 77.22.Ej; 81.15.HiA3. Molecular beam epitaxy; B1. Oxides; B2. Piezoelectric materials; B2. Semiconducting II–VI materials; B2. Semiconducting ternary materials; B3. Heterojunction semiconductor devices
Highly reflective AlGaAsSb/InP Bragg reflector at 1.55 μm grown by MOVPE
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 71.55.Eq; 42.55.Px; 81.15.Gh; 85.60.âq; A1. Crystal morphology; A1. Low-dimensional structures; A3. Metalorganic vapor-phase epitaxy; B1. Antimonides; B2. Semiconducting indium phosphide; B3. Heterojunction semiconductor devices;
Growth of InN on Ge substrate by molecular beam epitaxy
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 81.15.Hi; 78.77.Fd; 68.37.Lp; 61.10.Nz; A3. Molecular beam epitaxy; B2. Semiconducting germanium; B3. Heterojunction semiconductor devices; B3. Semiconducting III-V materials;
High In content pseudomorphic InGaAs layers for high-mobility heterostructures on InP (0Â 0Â 1)
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 81.05.Ea; 81.15.Hi; 73.40.Kp; 73.61.Ey; A3. Molcular beam epitaxy; B2. Semiconducting III-V materials; B3. Heterojunction semiconductor devices;
GSMBE growth and structural characterisation of SiGeC layers for HBT
Keywords: B3 دستگاه های نیمه هادی تقسیم می شوند; 81.15.Hj; 60.10.Kw; 60.10.Kz; 85.30.Pq; A2. X-ray diffraction; A3. Molecular beam epitaxy; B1. Germanium silicon alloys; B2. Semiconducting silicon compounds; B3. Heterojunction semiconductor devices;